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        ISTEQ私人有限公司專利技術(shù)

        ISTEQ私人有限公司共有1項(xiàng)專利

        • 本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生發(fā)射EUV輻射的等離子體的含Li靶材料。靶材料可以是具有至少一種其它元素的Li基組合物。作為示例,該其它的元素可以從包括Au、Ag、Bi、Ba、Sr的組中選擇。該組合物被配置為與Li的密度相比增加靶材料的密度多次。...
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