本發明公開了一種在選擇性發射極太陽電池制造過程中用于刻蝕二氧化硅掩膜的漿料的清洗工藝，包括以下步驟：（１）快排加沖淋：采用快排加沖淋的方式快速將硅片表面大部分的漿料及反應物去除并排出；（２）超聲波清洗：將快排加沖淋后的硅片放入超聲清洗機...