本發明公開了一種用于原位掃描電鏡測試的載物儀，涉及樣品臺技術領域，本發明中的裝置通過排氣組件和真空抽氣，載物儀可以在樣品槽內部形成真空環境，減少氣體干擾，提供更準確的觀察和測試結果，實時觀察材料在不同條件下的微觀結構和性能變化，裝置可以...

本技術涉及真空管道測量技術領域，具體地說，涉及一種真空管道測量設備。其包括真空管道本體和螺紋槽，真空管道本體外側壁套設有一對第一弧形移動板，第一弧形移動板后側鉸接有第二弧形移動板，第二弧形移動板內側壁固定連接有第一密封墊，第一弧形移動板...

本技術公開了刻蝕機真空管道同步測量夾具，涉及測量裝置技術領域。本技術包括底座、測試臺、內襯嘴和弧形夾板，所述底座的上方設有測試臺，在測試臺的上端分別設有移動座和固定座，移動座和固定座的相對面中部均安裝有內襯嘴，兩個所述內襯嘴的上下兩側均...

本技術涉及檢測設備相關技術領域，具體地說，主要涉及一種腔體真空性能檢測設備。其包括設備底座以及內部設置有腔體的真空罐，所述設備底座的頂部通過支撐機構支撐有真空罐，所述支撐機構的側面設置有滑動伸縮機構，所述滑動伸縮機構的頂部安裝有連接部件...

本技術涉及流量控制閥相關技術領域，具體地說，主要涉及液體微質量流量控制閥。其包括組成液體流量控制閥的控制閥體以及開設在控制閥體內部且被輸液軟管貫穿的安裝孔，所述安裝孔左右兩側的開口處螺紋連接有連接環體，所述連接環體的一側等距設置有若干通...

本技術涉及氣體實驗設備技術領域，具體地說，主要涉及一種氣體微質量流量調節器。其包括進行氣體實驗用軟管道和氣體流量傳感器，所述軟管道的外側安裝有兩組磁吸定位機構，兩組所述磁吸定位機構的頂部安裝有支撐板件，所述支撐板件的內部開設有通孔，所述...

本技術涉及刻蝕機檢測相關技術領域，具體地說，主要涉及刻蝕機真空腔體檢測裝置。其包括刻蝕機的真空腔體、對真空腔體的頂部進行密封的蓋體和檢測座，所述蓋體的內部貫穿設置有與高頻發生器連接的連接導線，所述真空腔體的左右兩側以及底部均設置有連接管...

本技術涉及激光器相關技術領域，具體地說，主要涉及激光器光路多角度調節裝置。其包括激光器本體以及底板，所述激光器本體通過其外側的兩組安裝定位機構安裝在支撐板的頂部，所述底板的頂部中心處安裝有旋轉伸縮機構，所述旋轉伸縮機構的頂部安裝在支撐板...

本發明提供光刻機污染控制清潔系統，包括污染物濃度采集模塊、數據傳輸模塊、數據處理模塊、數據庫模塊、污染物濃度判定模塊、總控模塊、污染物清潔模塊。本發明通過設置污染物濃度采集模塊、數據處理模塊、污染物濃度判定模塊、污染物清潔模塊，使用時，...

本實用新型涉及光刻機相關技術領域，具體地說，主要涉及光刻機防污染噴氣裝置

本實用新型涉及光路調節技術領域，具體地說，主要涉及激光器光路調節機構。其包括底板、安裝在底板頂部的兩組調節板件以及反射鏡片，兩組所述調節板件的中心部分安裝有四組呈環形等距設置的轉動調節機構，所述轉動調節機構的底部安裝有連接桿，解決了現有...

本實用新型公開了一種基于DUV高精度激光器脈沖電源保護裝置，包括第一箱體，第一箱體內腔底部的兩端均開設有第一滑槽，所述第一滑槽的內腔活動連接有第一夾持塊，所述第一夾持塊的右側開設有第二滑槽，所述第二滑槽的內腔活動連接有第二夾持塊，所述第...

本實用新型公開了一種基于激光器脈沖電源用高精度定位支架，包括穩定座和穩定板，所述穩定板的頂部開設有限位槽，所述穩定板的頂部設置有夾持板，且夾持板的數量為兩個，所述限位槽的內腔設置有輔助塊，所述限位槽的內腔且位于輔助塊的兩端均活動連接有限...

本實用新型公開了一種光刻機能量控制通訊故障的維護用的防護裝置，包括光刻機本體，所述光刻機本體的兩側均設置有穩定柱，所述穩定柱內腔的底部通過軸承活動連接有活動柱，所述穩定柱正面的下端固定連接有固定板，所述固定板的頂部固定連接有固定柱，所述...

本實用新型公開了一種基于光刻機能量控制通訊故障用檢修裝置，包括連接桿和第一箱體，連接桿的數量為兩個，所述兩個連接桿的交接處活動連接有轉軸，且兩個連接桿之間固定連接有第一彈簧，所述連接桿的左側固定連接有伸縮桿，所述伸縮桿的左側固定連接有固...

本實用新型公開一種便于調節化學機械拋光裝置，包括底盤，所述底盤底端的外側壁上開設有環型槽，所述環型槽的內部滑動連接有固定環，本實用新型所達到的有益效果是：本實用新型通過設置復位機構、卡位機構、防護結構和增壓機構，針對不同晶圓表面進行拋光...

本實用新型公開一種集成電路激光微加工用除塵裝置，包括除塵箱，所述除塵箱的內壁底部固定連接有夾緊機構，所述除塵箱的內壁頂部設置有吹風機構，本實用新型所達到的有益效果是：通過兩個L型夾塊將電路板固定住，啟動吹風風機和兩個吸塵風機，吹風風機中...

本實用新型公開一種帶有防護結構的DNS服務器終端，包括DNS服務器終端本體，所述DNS服務器終端本體的上表面固定連接有支撐板，所述支撐板的兩側均設置有多個均勻分布的散熱片，本實用新型所達到的有益效果是：本實用新型通過設置防護機構和緩沖機...

本實用新型公開一種集成電路半導體嵌入刻蝕機臺加工裝置，包括框架機構和傳動齒輪，所述框架機構內部插設有若干放置機構，本實用新型所達到的有益效果是：將半導體均勻放置在一號框架內，且位于限位柵欄內部的每個空隙中，通過一號框架上的過濾網與二號框...

本實用新型公開一種用于檢測功能的RIE半導體刻蝕裝置，包括底板，所述底板的上表面設置有兩個刻蝕機構，所述底板的上表面設置有觀測機構，所述觀測機構位于兩個刻蝕機構之間，本實用新型所達到的有益效果是：本實用新型中的兩個RIE刻蝕機分別為需要...