提供了一種制造顯示面板的方法、通過使用該方法制造的顯示面板以及包括該顯示面板的電子設備。該方法包括以下步驟：在基底的第一表面上形成顯示層，基底具有彼此背對的第一表面和第二表面；蝕刻基底的第二表面以減小基底的厚度并且去除基底的與孔形成區域...

本發明涉及顯示裝置及其檢查方法以及包括顯示裝置的電子裝置。顯示裝置包括：顯示面板，包括多個像素；感測電路，用于通過感測多個像素的特性來產生多個像素的感測值；以及面板缺陷規整器，用于補償感測值，面板缺陷規整器包括：初步缺陷像素檢測器，用于...

這種噴墨印刷的方法包括以下步驟：通過控制單元將驅動信號施加到包括噴嘴的頭部；響應于驅動信號而驅動頭部；以及通過控制單元將改變驅動信號的驅動波形的第一控制信號施加到頭部。

本申請涉及有機發光顯示設備，有機發光顯示設備包括：第一襯底；第二襯底，與第一襯底相對；多個有機發光元件，位于第一襯底上；濾色器，位于有機發光元件上；以及黑色矩陣，與濾色器相鄰，其中，濾色器包括第一濾色器、第二濾色器和第三濾色器，以及其中...

本申請涉及顯示裝置和包括顯示裝置的電子裝置。顯示裝置包括：顯示面板，包括襯底和顯示單元；電路板，連接到襯底；加強構件，設置在襯底上并且從電路板朝向顯示單元延伸；保護構件，設置在襯底上并且從顯示單元朝向電路板延伸以接觸加強構件；以及保護膜...

提供了顯示裝置、用于操作該顯示裝置的方法和電子裝置。該顯示裝置包括顯示面板和處理器。處理器控制顯示面板以顯示用于設定3D空間中的三維(3D)觸摸坐標的指定引導圖像。處理器控制顯示面板以顯示指引用戶以順序觸摸包括在指定引導圖像中的多個對象...

公開包括多個顯示單元的母基板以及用于制造顯示裝置的方法。母基板可以包括：支撐基板；第一有機膜，位于支撐基板的表面上；第一無機膜，布置在第一有機膜上并且覆蓋第一有機膜的邊緣；第二有機膜，位于第一無機膜上；第二無機膜，布置在第二有機膜上并且...

公開了一種顯示裝置以及包括顯示裝置的電子裝置。顯示裝置可以包括：基板；發光元件，在基板上；蓋層，包括布置在發光元件上并具有第一折射率的第一蓋層、布置在第一蓋層上并具有高于第一折射率的第二折射率的第二蓋層以及布置在第二蓋層上并具有低于第二...

公開了用于制造顯示裝置的設備、用于制造顯示裝置的方法和電子裝置。該用于制造顯示裝置的設備包括：平臺；加工激光單元，生成朝向平臺的第一激光；平坦度感測單元，生成朝向平臺的第二激光；公共光學系統，設置在第一激光和第二激光的光路中；以及厚度感...

本公開涉及原子層沉積裝置。原子層沉積裝置包括：源氣體供應部，用于供應多種源氣體；源氣體供應模塊，連接到源氣體供應部；排放部，連接到源氣體供應模塊并設置在源氣體供應模塊上方；以及排放等離子體供應部，連接到排放部并用于向排放部施加排放等離子...

本公開涉及顯示裝置，該顯示裝置包括：多個像素，連接到掃描線和數據線；數據驅動電路，經由數據線向像素輸出數據信號；掃描驅動電路，經由掃描線根據數據信號順序地激活至少一些像素；以及驅動控制器，控制兩個電路。顯示面板包括具有第一像素的第一顯示...

本申請提供了發光裝置和有機金屬化合物。發光裝置包括第一電極；面向第一電極的第二電極；在第一電極和第二電極之間并且包括發射層的夾層；以及由式1表示的有機金屬化合物。還提供了包括發光裝置的電子設備和電子器材。式1其中在說明書中提供了式1的詳...

本申請涉及一種包括虛設電極的顯示裝置、光學裝置以及電子裝置。顯示裝置包括：基板；第一電極，設置在基板上；像素限定層，設置在第一電極上并且具有溝槽；發光堆疊，設置在第一電極和像素限定層上；以及虛設電極，設置在基板與溝槽之間并且設置在第一電...

提供了抗反射膜、包括抗反射膜的顯示裝置和電子裝置，所述抗反射膜包括：保護構件；折射構件，設置在保護構件的表面上；以及減震構件，設置在保護構件與折射構件之間。

本申請涉及一種蝕刻設備和一種用于制造窗的方法，該蝕刻設備，包括：臺，目標襯底設置在臺上；噴嘴，與臺相對，且目標襯底在噴嘴和臺之間，并且朝向臺注入蝕刻劑；以及掩模部分，包括第一掩模和第二掩模，并且設置在目標襯底和噴嘴之間。掩模部分以第一模...

提供了一種顯示裝置。所述顯示裝置包括：顯示面板，包括多個像素；柵極驅動器，被配置為向像素輸出柵極信號；數據驅動器，被配置為向像素施加數據電壓；以及電壓生成器，被配置為向像素輸出補償電力電壓。像素連接到補償電力電壓線。電壓生成器包括：高電...

提供了一種顯示裝置、制造該顯示裝置的方法和包括該顯示裝置的電子裝置，其中，所述顯示裝置包括：基底，包括顯示區域和在顯示區域周圍的外圍區域，顯示區域包括子像素；水平電力電壓線，設置在顯示區域中并在第一方向上延伸；豎直電力電壓線，設置在顯示...

本申請涉及顯示裝置、包括其的電子裝置和制造其的方法。顯示裝置包括：基礎襯底；有源層，在基礎襯底上包括銦錫鎵鋅氧化物（ITGZO），有源層包括溝道區域和接觸區域，接觸區域被部分地結晶并形成在溝道區域的相對邊緣處；柵電極，在基礎襯底上，以與...

提供了一種顯示裝置的電壓設定方法、顯示裝置和電子裝置，所述電壓設定方法包括以下步驟：設定提供到像素中的每個的發光元件的陰極的第一電力電壓；設定提供到發光元件的陽極的陽極初始化電壓與第一電力電壓之間的差值，使得根據頻率變化的亮度變化最小化...

公開了一種用于制造使用層疊體的掩模的方法。該層疊體可以包括：硅基底；第一下無機層，覆蓋硅基底的下表面；第二下無機層，覆蓋第一下無機層的下表面；第一上無機層，覆蓋硅基底的上表面；以及第二上無機層，覆蓋第一上無機層的上表面。該方法可以包括以...