本公開描述一種基于反向跟蹤的

本發明描述一種用于擴展調頻連續波測距范圍的方法及裝置，測距裝置包括用于將測距范圍劃分為多個距離區間的延時網絡，延時網絡包括與多個距離區間相匹配的多個預設延時參數，擴展測距范圍的方法包括：令測量光輸出至目標并獲取目標散射測量光形成的返回光...

本公開描述一種激光測量系統中光纖組件的溫控裝置，包括用于放置光纖組件的內殼

本發明描述一種跨波段超大范圍消色差聚焦光學系統，跨波段超大范圍消色差聚焦光學系統具有靠近光源的發射位置的近端和遠離發射位置的遠端，沿入射光方向由近端至遠端共光軸地依次設置具有正光焦度的第一透鏡組和具有正光焦度的第二透鏡組，第一透鏡組包括...

本公開描述一種恒測量力裝置，恒測量力裝置控制由測針接觸被測對象產生的作用于被測對象的測量力，包括測桿

本公開描述一種輪廓儀系統及用于輪廓儀系統的識別方法，輪廓儀系統包括夾持模塊和識別系統，夾持模塊包括基座以及與基座可拆卸裝配的夾具，識別系統包括執行模塊和處理模塊，執行模塊配置為響應于輸入的第一數據集生成第一信號；基座包括第一觸發件，夾具...

本發明描述一種可自適應調節的導軌系統，包括運動組件、導軌組件、傳動組件以及調節組件，調節組件包括可相對旋轉的第一調節部和第二調節部，運動組件與第一調節部固定連接，傳動組件與第二調節部固定連接，運動組件通過調節組件與傳動組件連接并在傳動組...

本公開描述一種具有保護系統的掃描機構，掃描機構包括對待測物進行掃描的探測元件，保護系統包括基座、運動部、感應裝置、以及彈性復位裝置，探測元件設置于運動部，運動部通過彈性復位裝置活動連接于基座，感應裝置感應于運動部相對基座發生位移且位移量...

本公開描述了一種光學測量系統，包括用于獲得測量信息的光學測量裝置以及配置為接收測量信息并進行擬合的擬合裝置，光學測量裝置包括照明模塊、掃描模塊、以及成像模塊，照明模塊包括用于發射照明光束的光源，照明光束經由掃描模塊到達待測物并形成反射光...

本公開描述了一種聚焦曲線的評價算法，包括：獲取測量信息，測量信息包括多個第一測量信息、第二測量信息、以及多個第三測量信息；在多個第一測量信息中獲取多個第一目標測量信息，在多個第三測量信息中獲取多個第三目標測量信息，響應于第一測量信息與第...

本公開描述了一種具有補償測量的重建方法、重建裝置和重建系統，重建方法包括：獲取待測物在第一光束照明時多個待測區域的反射光束作為多組第一反射光束，基于多組第一反射光束獲得多組第一測量信息；獲取待測物在第二光束照明時多個待測區域的反射光束作...

本公開描述一種白光光源中心波長的測量方法，測量方法包括：使用白光光源發出測量光束至待測樣品并經待測樣品反射以獲得關于待測樣品的多幀圖像的光干涉信號；構建多幀圖像的采樣幀數和光干涉信號的信號強度的關系曲線；得到多幀圖像的圖像幀序和在每幀圖...

本公開描述一種白光光源中心波長的測量裝置，包括發生模塊、干涉物鏡、采樣模塊、以及數據處理模塊；發生模塊用于經干涉物鏡向待測樣品發出測量光束，測量光束經待測樣品反射在干涉物鏡中形成反射光束；采樣模塊采集反射光束以獲得用于形成關于待測樣品的...

本公開描述一種用于測頭的三維預行程測量方法和補償方法，三維預行程測量方法包括：準備測試工裝，測試工裝具有同心圓弧面；利用測頭測量位于同心圓弧面的多個接觸點，并獲得多個接觸點的測量坐標和與接觸點相配合的矢量方向；基于多個接觸點獲得多個擬合...

本公開描述一種基于多次成像的光學測量系統及成像方法，該光學測量系統包括照明模塊、掃描模塊、成像模塊、以及圖像處理模塊；照明模塊用于發射照明光束；掃描模塊配置為接收照明光束并將照明光束出射至待測物且接收來自待測物的反射光束，其中，多孔盤包...

本公開描述一種測座的角度反饋系統及其角度反饋方法，角度反饋系統包括：驅動輪、與測頭聯動的旋轉機構、以及反饋輪，驅動輪設置于驅動機構并被配置為在驅動機構的作用下繞第一旋轉軸線進行旋轉，旋轉機構包括與驅動輪聯動并被配置為在驅動輪的作用下繞第...

本公開描述一種共焦測量系統的多孔盤，共焦測量系統基于多孔盤進行成像，多孔盤包括具有若干條阿基米德螺線的螺線區域，形成阿基米德螺線的通光孔組以圍繞多孔盤的中心呈旋轉對稱分布，螺線區域包括多組以環繞多孔盤的中心的方式呈周期性排列的通光孔陣列...

本公開描述一種基于雙目相機的捕獲目標的方法，雙目相機包括用于第一光源、第二光源、第一采集單元、以及第二采集單元，第一采集單元獲取目標反射的第一光束并得到第一光斑數據，第一光斑數據包括第一分量和第二分量，第二采集單元獲取目標反射的第二光束...

本公開描述一種雙目相機，雙目相機包括第一光源、第二光源、第一采集單元、以及第二采集單元，第一采集單元被配置為獲取目標反射的第一光束并得到第一光斑數據，第一光斑數據包括第一分量和第二分量，第二采集單元被配置為獲取目標反射的第二光束并得到第...

本公開描述一種用于測頭的水平面內預行程測量方法和預行程補償方法，預行程測量方法包括：將測頭設置于旋轉機構；將接觸件設置于移動機構以使接觸件可在移動機構的控制下在水平面內靠近或遠離測端；利用移動機構控制接觸件靠近測端，接觸件接觸測端時，獲...