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        捷捷微電南通科技有限公司專(zhuān)利技術(shù)

        捷捷微電南通科技有限公司共有73項(xiàng)專(zhuān)利

        • 本申請(qǐng)公開(kāi)一種含氟廢水的處理系統(tǒng)及處理方法,涉及廢水處理技術(shù)領(lǐng)域,該含氟廢水的處理系統(tǒng)包括儲(chǔ)液罐、反應(yīng)池、控制器、檢測(cè)器和閥門(mén),儲(chǔ)液罐用于存儲(chǔ)處理藥液,反應(yīng)池用于存儲(chǔ)含氟廢水,儲(chǔ)液罐和反應(yīng)池通過(guò)加藥管路連通,檢測(cè)器設(shè)置于反應(yīng)池內(nèi),用于獲...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N溝槽形成方法和半導(dǎo)體器件,涉及半導(dǎo)體制作技術(shù)領(lǐng)域,包括:在半導(dǎo)體層上形成掩膜圖案層,掩膜圖案層具有露出半導(dǎo)體層的窗口;在氧氣氛圍中,采用激光以脈沖方式照射窗口內(nèi)的半導(dǎo)體層,以在半導(dǎo)體層上形成氧化區(qū),采用濕法腐蝕氧化區(qū)以在半...
        • 本技術(shù)實(shí)施例提供的半導(dǎo)體物料自動(dòng)搬運(yùn)裝置和半導(dǎo)體物料傳輸系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,該半導(dǎo)體物料自動(dòng)搬運(yùn)裝置包括電氣開(kāi)關(guān)、半導(dǎo)體搬運(yùn)組件以及傳送組件,傳送組件的控制器與傳送組件的電源通過(guò)電氣開(kāi)關(guān)電連接,在半導(dǎo)體搬運(yùn)組件位于初始位置時(shí),半導(dǎo)...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N負(fù)壓產(chǎn)生裝置與半導(dǎo)體加工系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域。該負(fù)壓產(chǎn)生裝置包括主管道、支路管道、第一集塵機(jī)構(gòu)以及負(fù)壓泵,主管道豎直設(shè)置,且第一集塵機(jī)構(gòu)位于主管道的最下方,并與主管道可拆卸連接,主管道的上方用于與加工設(shè)備連通;支...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N連接器及加熱裝置,涉及電器技術(shù)領(lǐng)域。該連接器包括連接器主體以及分別連接于連接器主體的第一插口和第二插口,第一插口用于連接加熱器插頭,第二插口用于連接電源插頭,連接器主體的內(nèi)部設(shè)置有電路板,第一插口經(jīng)電路板與第二插口電連接,...
        • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種電源線公插頭及電源線,涉及電源線技術(shù)領(lǐng)域。電源線公插頭包括底殼以及蓋設(shè)在底殼上的蓋體,底殼上設(shè)置有導(dǎo)線伸入的開(kāi)口,沿導(dǎo)線的伸入方向底殼內(nèi)依次設(shè)置有主夾持結(jié)構(gòu)、主引導(dǎo)結(jié)構(gòu)、在主引導(dǎo)結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離主夾持結(jié)構(gòu)的一端設(shè)置的多道分約束結(jié)...
        • 本申請(qǐng)公開(kāi)了一種清潔裝置,涉及清潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。清潔裝置包括操作桿以及轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在操作桿端部的安裝座,安裝座上均布多個(gè)清潔模組,清潔模組包括設(shè)置在安裝座上的安裝塊以及設(shè)置在安裝塊上的活動(dòng)組件,活動(dòng)組件相對(duì)安裝塊具有擺動(dòng)自由度和升降自由度,...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N屏蔽柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制作方法,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該屏蔽柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管包括控制柵與屏蔽柵,控制柵包括多個(gè)主體柵極與多個(gè)互連柵極,相鄰兩個(gè)主體柵極之間交錯(cuò)排布,且相鄰兩個(gè)主體柵極的端部位置通過(guò)互連柵極相連,并形成方形結(jié)構(gòu)...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N圍合式屏蔽柵場(chǎng)效應(yīng)管及其制作方法,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該圍合式屏蔽柵場(chǎng)效應(yīng)管包括硅臺(tái)面區(qū)、屏蔽柵、控制柵以及氧化層,屏蔽柵、控制柵均包圍硅臺(tái)面區(qū)設(shè)置,屏蔽柵、控制柵以及硅臺(tái)面區(qū)之間均間隔設(shè)置,且氧化層填充于屏蔽柵、控制柵...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N風(fēng)扇運(yùn)行檢測(cè)裝置與晶圓加工系統(tǒng),涉及晶圓加工技術(shù)領(lǐng)域。該風(fēng)扇運(yùn)行檢測(cè)裝置應(yīng)用于晶圓加工系統(tǒng),晶圓加工系統(tǒng)包括風(fēng)扇,且風(fēng)扇通過(guò)出風(fēng)口出風(fēng);風(fēng)扇運(yùn)行檢測(cè)裝置包括金屬片、電源、感應(yīng)片以及報(bào)警器,電源分別與金屬片、報(bào)警器電連接,...
        • 本申請(qǐng)公開(kāi)一種晶圓厚度測(cè)量裝置及方法,涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,包括紅外低相干光源、分光棱鏡、反射鏡、載臺(tái)、驅(qū)動(dòng)件、紅外探測(cè)器和數(shù)據(jù)處理單元,紅外低相干光源發(fā)出的光束經(jīng)分光棱鏡分光后分別入射至反射鏡和待測(cè)晶圓,又經(jīng)反射鏡和待測(cè)晶圓原路反射后入射...
        • 一種排氣裝置及涂膠設(shè)備,涉及涂膠設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。本申請(qǐng)?zhí)峁┑呐艢庋b置,包括管道,管道的相對(duì)兩端分別設(shè)置有入氣口和出氣口,入氣口與涂膠單元的基座連接,涂膠單元產(chǎn)生的氣體由入氣口進(jìn)入管道,并由出氣口向外界排出;排氣裝置還包括入液管和排液管,入...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N光刻膠噴涂裝置與晶圓處理系統(tǒng),涉及涂膠顯影技術(shù)領(lǐng)域。該光刻膠噴涂裝置包括進(jìn)膠管路、離心式氣液分離裝置、排泡模塊、泵以及出膠管路,進(jìn)膠管路、離心式氣液分離裝置、排泡模塊、泵以及出膠管路依次連通,進(jìn)膠管路用于通入呈液體狀的光...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N防掉溫裝置與半導(dǎo)體加工系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該防掉溫裝置應(yīng)用于刻蝕設(shè)備,刻蝕設(shè)備包括工藝腔體與加熱模塊,加熱模塊位于工藝腔體內(nèi),防掉溫裝置包括控制器、不間斷電源、開(kāi)關(guān)模塊以及溫度傳感器,控制器分別與開(kāi)關(guān)模塊、溫度傳感...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N內(nèi)膠杯高度測(cè)量裝置,涉及晶圓涂膠加工技術(shù)領(lǐng)域。該內(nèi)膠杯高度測(cè)量裝置包括安裝座、支撐板和高度測(cè)量桿;支撐板固定設(shè)置于安裝座的頂部,高度測(cè)量桿包括桿身、測(cè)量探頭和顯示屏,桿身沿豎直方向穿設(shè)于支撐板,顯示屏位于桿身遠(yuǎn)離安裝座的端...
        • 本技術(shù)提出一種壓力監(jiān)控機(jī)構(gòu)及尾氣處理機(jī),屬于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,壓力監(jiān)控機(jī)構(gòu)通過(guò)每個(gè)廢氣管連通尾氣處理機(jī)的腔體和一個(gè)主設(shè)備,并通過(guò)檢測(cè)管連通至少兩個(gè)廢氣管,使得安裝于檢測(cè)管上的壓力傳感器可以同時(shí)監(jiān)控兩條廢氣管路的壓力,極大地改善了尾氣處理機(jī)...
        • 本技術(shù)提供了一種溝槽氧化層結(jié)構(gòu)及半導(dǎo)體器件,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該溝槽氧化層結(jié)構(gòu)包括:外延片;位于外延層外的溝槽;填充于溝槽內(nèi)的第一多晶硅層、第二多晶硅層以及氧化層,氧化層包括第一氧化層、第二氧化層與第三氧化層。第一多晶硅層位于第二多晶...
        • 本技術(shù)公開(kāi)一種夾持機(jī)構(gòu)及夾持設(shè)備,涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。該夾持機(jī)構(gòu)包括夾具本體,夾具本體上設(shè)置有至少兩個(gè)夾持臂,至少兩個(gè)夾持臂呈相對(duì)設(shè)置,每個(gè)夾持臂均具有伸出至夾具本體外的伸出狀態(tài)和回縮至夾具本體內(nèi)的縮回狀態(tài),夾持臂處于伸出狀態(tài),以使...
        • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N屏蔽柵溝槽型晶體管,涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該屏蔽柵溝槽型晶體管包括晶圓襯底,晶圓襯底包括原胞區(qū)、截止環(huán)區(qū)和劃片道區(qū);截止環(huán)區(qū)環(huán)繞原胞區(qū),劃片道區(qū)環(huán)繞截止環(huán)區(qū);原胞區(qū)設(shè)有屏蔽柵溝槽,截止環(huán)區(qū)設(shè)有截止環(huán)溝槽,劃片道區(qū)設(shè)有應(yīng)力平...
        • 本技術(shù)提供一種預(yù)熱水槽裝置及系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。其中,預(yù)熱水槽裝置包括加熱模塊與監(jiān)測(cè)模塊,監(jiān)測(cè)模塊包括監(jiān)測(cè)單元、報(bào)警單元;監(jiān)測(cè)單元分別與加熱模塊、報(bào)警單元連接;加熱模塊、報(bào)警單元以及監(jiān)測(cè)單元還均分別與供電裝置連接。監(jiān)測(cè)單元用于監(jiān)測(cè)...