本發(fā)明公開了一種氣相緩蝕劑的制備方法，其通式是Ｒ↓［２］Ｎ（ＣＨ↓［２］）↓［ｎ＋１］ＣＨ（ＯＨ）ＮＣＨ↓［２］Ｒ↓［２］（ｎ＝０－３）的叔胺與苯甲酸及其衍生物在５０～７０℃下混合，將反應(yīng)物與去離子水按（１０～２０％）∶（９０～８０％）...

本發(fā)明涉及一種金屬表面處理工藝，具體涉及一種利用自組裝單分子膜的金屬抗變色方法。該方法針對(duì)銅及其合金、銀及其合金、金及其合金等金屬，或由上述金屬組成的其它金屬或非金屬的表面鍍層，在大氣中存放過程中的腐蝕變色問題，采用環(huán)境友好型活性物質(zhì)三...

本實(shí)用新型一種奧氏體不銹鋼電子束輔助等離子體表面改性設(shè)備屬于材料表面改性的技術(shù)領(lǐng)域，該設(shè)備包括真空爐、空心陰極裝置、進(jìn)氣系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)、測(cè)溫系統(tǒng)和冷卻系統(tǒng)。對(duì)工件表面進(jìn)行處理時(shí)，空心陰極裝置內(nèi)產(chǎn)生空心陰極效應(yīng)，進(jìn)而產(chǎn)生低能電...

本實(shí)用新型涉及一種脈沖放電催化化學(xué)熱處理設(shè)備，由爐底座、爐筒、電控柜、催化放電電極、催化放電電極和脈沖電源組成，還包括爐氣均勻循環(huán)系統(tǒng)、隔熱層結(jié)構(gòu)和內(nèi)置交流加熱器，爐氣均勻循環(huán)系統(tǒng)是由真空電機(jī)、風(fēng)扇、隔熱屏和隔熱屏構(gòu)成，真空電機(jī)與風(fēng)扇相...

熱處理領(lǐng)域中的一種離子轟擊爐用的吊掛陰極輸電裝置，主要是由陰極導(dǎo)套（１）、陰極線插頭（２）、十字陰極導(dǎo)電桿（８）、絕緣層、密封墊（６）和氣隙保護(hù)層（１４）所構(gòu)成，特殊之處是，該裝置形成一個(gè)整體結(jié)構(gòu)，構(gòu)成氣隙保護(hù)層（１４）兩側(cè)的構(gòu)件是金屬...

一種熱處理領(lǐng)域離子轟擊爐用的堆放陰極輸電裝置，主要是由陰極導(dǎo)套（２１）、陰極導(dǎo)電桿（１０）、陰極線插頭（２）、包圍陰極導(dǎo)電桿的絕緣層、密封墊（８）和氣隙保護(hù)層（１８）所構(gòu)成，特征是，在由金屬屏蔽層（１５）和金屬內(nèi)屏蔽套（１３）而構(gòu)成的氣...

本實(shí)用新型的一種新型真空表面強(qiáng)化設(shè)備屬于等離子體表面改性的技術(shù)領(lǐng)域。該設(shè)備包括真空爐、進(jìn)氣系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)、測(cè)溫系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、載物臺(tái)和絕緣體，其特征在于，還包括一個(gè)位于真空爐內(nèi)的雙層圓筒，該雙層圓筒通過絕緣體與爐體電絕緣，載...

本實(shí)用新型公開了一種金屬材料滲碳設(shè)備，由爐體２與爐體２相接的支座１和門５、設(shè)在爐體２內(nèi)的隔熱層３、設(shè)在隔熱層３內(nèi)的加熱極板６及用于擊穿滲碳?xì)怏w的陽(yáng)極板４和陰極導(dǎo)軌８、與陰極導(dǎo)軌８相接的工件導(dǎo)軌７組成，爐體２上還設(shè)有抽氣口１４和進(jìn)氣管９，...

材料表面工程領(lǐng)域中金屬表面強(qiáng)化用的常壓非平衡離子滲擴(kuò)爐，由爐蓋（２２），爐底板（１６），爐體（７）和設(shè)在其內(nèi)的加熱體（２０）、隔熱屏（１９）、工件平臺(tái)（１７）所構(gòu)成，特征：爐體內(nèi)設(shè)有吊掛在爐蓋上并帶有多個(gè)針狀凸起物（３０）的吊掛陽(yáng)極（２...

本實(shí)用新型公開了離子滲氮爐用的一種自動(dòng)連接陽(yáng)極，由陽(yáng)極導(dǎo)電柱、彈簧、鎖緊螺栓、緊固螺母和底座法蘭組成。陽(yáng)極導(dǎo)電柱置于底座法蘭上設(shè)有的異徑通孔內(nèi)，鎖緊螺栓與異徑通孔下部設(shè)有的內(nèi)螺紋相連接，彈簧套在陽(yáng)極導(dǎo)電柱上，彈簧置于陽(yáng)極導(dǎo)電柱的上凸臺(tái)與...

本實(shí)用新型公開了一種對(duì)長(zhǎng)桿件進(jìn)行離子滲氮的雙向自動(dòng)調(diào)整吊具，由吊掛螺釘、吊掛盤、緊固螺母、吊桿、墊圈、工件連接套、球面墊和吊掛連接套組成，吊掛盤和吊掛連接套由吊掛螺釘相連接，吊桿置于吊掛連接套和工件連接套之間，吊桿的兩端設(shè)有球面墊，吊桿...

本實(shí)用新型公開了一種離子滲氮爐，屬于金屬熱處理設(shè)備。該滲氮爐由弧形爐蓋、圓形爐筒、弧形爐底座、快速冷凍系統(tǒng)、陰極輸電裝置和測(cè)溫裝置等構(gòu)成。特點(diǎn)是弧形爐蓋上設(shè)有快速冷凍系統(tǒng)，同時(shí)起到均勻爐溫的作用，而陰極輸電裝置橫臥于陰極盤下方，不承受重...

本實(shí)用新型涉及離子滲氮爐用的一種陰極支承裝置，由支承螺栓、調(diào)節(jié)螺帽、外屏蔽套和絕緣支承座組成，絕緣支承座的上端設(shè)有屏蔽盤，支承螺栓通過屏蔽盤插入絕緣支承座中，屏蔽盤與外屏蔽套之間形成橫向屏蔽間隙，絕緣支承座上設(shè)有內(nèi)屏蔽套，外屏蔽套和內(nèi)屏...

金屬熱處理領(lǐng)域表面強(qiáng)化用的一種新型離子轟擊爐，由以爐蓋（３）、爐筒（５）、爐底（６）組成的爐體（４）和真空（６２）、供氣（６３）、供電（６４）和冷卻系統(tǒng)（６５）所構(gòu)成。其特點(diǎn)是，在爐蓋上設(shè)有多個(gè)吊掛陰極輸電裝置，爐筒是用真空層、空氣層和...

一種離子濺射滲金屬的方法，其特征在于：將金屬靶放在輝光放電離子轟出熱處理爐的陰極上；將與電報(bào)完全絕緣的工件置于金屬靶附近；將爐閃氣壓抽至可產(chǎn)生輝光放電的范圍；將熱處理爐的工作電壓調(diào)至８００伏以上，額定工作電壓以下，同時(shí)通入少量氨氣；將靶...

材料表面工程領(lǐng)域的一種金屬表面強(qiáng)化用的常壓非平衡等離子體設(shè)備與工藝，設(shè)備包括爐體和供氣，排氣，加熱，測(cè)控，冷卻及供電系統(tǒng)（６），特征是，爐體設(shè)有帶有針狀凸起物（３０）的吊掛陽(yáng)極（２１），采用的電源為超高壓脈沖電源，工藝是在爐內(nèi)氣壓為１×...

本發(fā)明公開了一種離子滲氮爐，屬于金屬熱處理設(shè)備。該滲氮爐由弧形爐蓋、圓形爐筒、弧形爐底座、快速冷凍系統(tǒng)、陰極輸電裝置和測(cè)溫裝置等構(gòu)成。特點(diǎn)是弧形爐蓋上設(shè)有快速冷凍系統(tǒng)，同時(shí)起到均勻爐溫的作用，而陰極輸電裝置橫臥于陰極盤下方，不承受重量，...

本實(shí)發(fā)明涉及真空高壓脈沖放電催化化學(xué)熱處理設(shè)備及方法，設(shè)備由爐底座、爐催化放電電極、催化放電電極、脈沖電源、爐氣均勻循環(huán)系統(tǒng)、隔熱層結(jié)構(gòu)和內(nèi)置交流加熱器等組成，其方法是：將工件置于爐內(nèi)，內(nèi)置交流加熱器加熱至滲氮溫度，脈沖電源輸出電壓為０...

本發(fā)明涉及一種等離子體活塞環(huán)表面的強(qiáng)韌化處理方法。其方法步驟是：將待處理的活塞環(huán)置于真空等離子滲擴(kuò)裝置中，輸入７５０～８５０Ｖ電壓，電流密度為１．５～２．５ｍＡ／ｃｍ↑［２］，充入氣體，氣體成分及比例為：氨∶丙酮＝１０∶１，氣壓為１．１...

本發(fā)明涉及利用有機(jī)超薄膜的金屬抗變色處理方法，流程包括除油，水洗，活化，成膜，清洗，烘干。采用硫醇類化合物和長(zhǎng)碳鏈的表面活性劑在金屬表面形成更為緊密的多層自組裝膜，本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明可有效的抑制大氣中含硫氣體等的侵蝕，防止金屬的...