一種浸入式光學投影系統與集成電路晶片的制造方法。該浸入式光學投影系統包括：一末端鏡片元件；一晶圓基座，用于握持一晶圓；一透明板，于該浸入式光學投影系統使用時座落于該末端鏡片元件與該晶圓間。該透明板具有一鏡片側表面與一晶圓側表面，該浸入式...

本發明是有關于一種在基材上制造圖案的方法及系統，一種高解析度的微影系統與方法。在一實施例中，提供了一種在基材上制造圖案的方法，包括將圖案區分成至少一第一子圖案以及一第二子圖案，其中第一子圖案包含朝第一方向的復數個線，且第二子圖案包含朝第...

本發明提供一種濕浸式光刻的方法、濕浸式光刻系統、及裝置，包括：濕浸液體座架，用于包含濕浸液體；夾片臺，用于將涂布有光致刻蝕劑的半導體晶片放置在該濕浸液體座架內；以及鏡頭，緊鄰該濕浸液體座架并且可被放置用于通過該濕浸液體而將影像投影在該涂...

一種微影光罩及其制造方法與使用上述兩者制造的半導體元件包括一個位于獨立或半獨立區域的設計特征，以及復數個垂直于設計特征的平行線型輔助特征。這些平行線型輔助特征包括位于設計特征兩邊的兩組平行輔助特征。第一組平行輔助特征位于設計特征的第一邊...

本發明涉及一種光罩及其制造方法與微影的方法。本發明提供一種光罩，包括一透明基板以及一吸收層，該吸收層緊鄰于該透明基板。上述吸收層之中具有數個開口。此光罩還包括一波長縮短材料層，設置于該數個開口之中，其中該波長縮短材料層與該吸收層大體上形...

本發明是有關于一種光罩組及運用光罩組所形成的半導體結構，其中該光罩組，包括數次使用于制程中的全域光罩，適用于制造半導體元件。全域光罩包括接觸窗結構、內連線結構或兩者。為了每一層的使用，全域光罩包括供上下層元件連接的結構。當用于其他層時，...

本發明提供一種用以決定應用于光刻制程的光源品質的方法。將一影像感測器陣列曝光于一光源的光。收集對應于一瞳孔圖像的多個位置的地址及個別的強度，其是表示該光源的光在該影像感測器陣列上的強度。依據收集的該地址及強度，定義該瞳孔圖像的內曲線及外...

本發明是有關于一種包含光罩的裝置以及制造該光罩的方法。該光罩具有一圖樣表面及在圖樣表面上成一透明層。該制造光罩的方法，其包含以下步驟：提供一光罩基材，該光罩基材包含第一材質；圖樣化該光罩基材以形成一圖樣表面；以及在該圖樣表面形成一阻障層...

本發明公開了一種適用于浸潤式微影制程的方法與系統。此方法包括：供應浸潤流體給位于影像透鏡和欲進行圖案化的基材兩者之間的空間。在位于此空間的浸潤流體中產生電場。其中電場會促使微粒離開基材表面。藉由浸潤流體體將微粒從基材表面移除。之后補充空...

本發明是關于一種光罩或晶圓上圖案的近接式制程控制關鍵尺寸的改善方法，用以改善一基底的關鍵尺寸均勻性，并包含根據一第一基材上一圖案的一近接式制程趨勢決定一方程式。應用該方程式于一回歸式模型以決定一第二基材的參數值。根據該第二基材的曝光制程...

本發明公開了增加微影產量的設備及其方法。該微影設備包含一第一透鏡系統、一第一基材基臺、一第二透鏡系統，與一第二基材基臺。第一基材基臺可接收來自第一透鏡系統的第一輻射能，并可在一曝光步驟中移動一基材。第二透鏡系統的解析度高于第一透鏡系統的...

本發明的除去位于被護膜覆蓋的掩模上的雜質的裝置及方法，該裝置包括一激光光源、一透鏡組以及一平臺。平臺與透鏡組保持一適當的距離，并供容納與放置具有護膜的掩模。從該激光光源發出的激光經過該透鏡組投射至平臺上，且投射至平臺的激光穿過護膜并除去...

本發明提供一種疏水性表面的掩模。該掩模包括：一基板；多個圖案，形成于該基板上；以及一形成于未覆蓋所述圖案的該基板上的自組裝單層。該自組裝單層包括一通過汽化工藝或溶液工藝形成的烷基三氯硅烷層，例如十八烷基三氯硅烷層或全氟十烷基三氯硅烷層。

本發明是關于一種微影對焦以及／或能量的最佳化方法及其系統，該方法和系統使用特別設計的光學關鍵尺寸圖案。在接收一包含復數個光罩的晶圓后，可使用整合式量測系統測量光罩的關鍵尺寸、線路末端縮短以及復數個光罩的側壁角度，在模擬光譜數據庫中執行光...

本發明是關于一種用以更換光阻過濾器（Ｒｅｓｉｓｔ　　Ｆｉｌｔｅｒ）的系統與方法，以此種方式來減少過濾器所誘致（Ｆｉｌｔｅｒ－Ｉｎｄｕｃｅｄ）的晶圓缺陷。在一實施例中，此實施光阻過濾器更換技術的系統至少包括連接至分配器（Ｄｉｓｐｅｎｓｅｒ...

本發明提供一種掩模的制造方法。該方法包括下列步驟：提供一基板，該基板具有位于該基板上方的第一衰減（ａｔｔｅｎｕａｔｉｎｇ）層以及位于該第一衰減層上的第一圖像層；在寫入模式下使用第一輻射能量對該第一圖像層進行第一曝光步驟；對該第一衰減層進...

本發明是有關于一種光掩膜及其制造方法，該相位偏移光掩膜是一種使用兩個獨立曝光制程所制備的相位偏移光掩膜。此一光掩膜包括基材和位于基材上的元件圖案區。此光掩膜具有用來定義元件圖案的邊界的罩幕圖案，以及用來定義罩幕圖案的邊界的管理圖案區。

本發明是有關于一種使用單一數據處理單元的多重工具，用以經由影像束工藝而同時處理多片基材的方法與系統，此系統包括多重曝光模組，上述曝光模組可直接寫入基材，配置上述曝光模組以自數據處理單元接收寫入指令。本發明的系統與方法采用多重曝光模組，多...

本發明提供一種用于微影圖案化工藝的光掩模保護膜系統和集成電路的制造方法，該光罩保護膜系統包括透明基板；預定義圖案，形成于上述透明基板上；保護膜，靠近于上述透明基板；保護膜框架，用以固定上述保護膜；吸震物，設置于上述保護膜框架和透明基板之...

一種具有阻隔構件的反射式液晶光閘。為提供一種減少漏光、降低介電層的厚度、增加光線進入介電層后的反射次數、提高投影顯示系統品質、提高效率、降低成本的觀看用裝置部件，提出本發明，它包括基底、設置于基底上的第一反射層、設置于第一反射層上的用以...