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        恩特格里斯公司專利技術

        恩特格里斯公司共有637項專利

        • 具偏移歧管的內部清洗噴灑器
          本發明提供一種用于襯底容器的清洗塔組合件。所述組合件可包含用于安裝到襯底容器的底板的清洗接口本體,所述清洗接口本體包含基座部分及頂部部分。所述基座部分可包含基本上管狀基座側壁且所述頂部部分可具有定位于所述基座部分的頂部邊緣上的頂部側壁。...
        • 互鎖模塊化襯底支撐柱
          本發明涉及一種用于襯底容器的襯底支撐組合件。所述組合件可包含一對襯底支撐柱,其各自包含多個架部件的堆疊及插入通過所述堆疊以將所述堆疊固定在一起的多個支撐桿。每一架部件可包含葉片部分,其具有第一及第二相對表面以及內及外周邊。所述葉片部分的...
        • 本發明涉及可用于在具有含鍺材料的微電子裝置上鈍化所述含鍺材料的組合物。
        • 流體供應組件
          本發明描述了不同類型的流體供應組件,所述流體供應組件用于輸送流體到流體利用設施,例如半導體制造設施、太陽能電池板制造設施及平板顯示器制造設施。所述流體供應組件包含流體供應容器及多種配置的閥頭,可用于構成特性為壓力調節式及/或吸附劑式的流...
        • 具有增強型容納的襯底容器
          可通過射出模制金屬漿料而形成用于半導體制造工業中的襯底容器及/或其部分。更特定來說,可通過射出模制含有鎂或鎂合金的金屬漿料而形成此類襯底容器及/或其部分。與相當的由基于聚合物的材料形成的襯底載體相比,其中襯底容器的至少一部分由含有鎂或鎂...
        • 高壓過濾器
          本發明提供一種高壓過濾器,其包含:第一殼體及第二殼體,其具有互補漸縮表面;墊圈,其位于所述漸縮表面之間;過濾器元件,其居中地安置于所述殼體內;及壓縮軸環,其裝配在所述第二殼體上方且旋擰到所述第一殼體上。還提供制成且使用高壓過濾器的方法。
        • 橢圓隔膜閥
          一種橢圓隔膜閥具有雕刻成主體及板的面的曲面。所述曲面具有橢圓形狀且在所述主體及所述板彼此接合及緊固時界定卵形或蛋狀閥室,其中隔膜包夾于所述主體與所述板之間。入口及出口在由所述閥室的長度界定的相對端處界定于所述主體的所述曲面中。流道界定于...
        • 用于玻璃塑形模具的涂層及包括所述涂層的模具
          本發明描述精密玻璃模具,其通過用包含鈦的涂層涂布由高純度、細粒度石墨制成的模具而形成。在各種實施方案中,鈦涂層用氧化釔(Y2O3)外涂以提供具有優異性能特性的高度精密玻璃模具。所得玻璃模具可用于形成具有高度光滑光潔度的玻璃制品,以用于例...
        • 接枝聚砜膜
          聚砜膜經改性使得單體接枝到所述膜的表面上。所述聚砜膜可通過使所述膜與接枝溶液接觸并將所述膜暴露于通常在光譜的紫外部分內的電磁輻射來接枝。所接枝的所述單體通常是陰離子或陽離子的。所述接枝膜可用于從液體過濾雜質,例如帶正電荷和帶負電荷的粒子...
        • 混合灌封樹脂及其用途
          本文中描述一種熱塑性混合灌封樹脂、一種混合樹脂灌封型膜、一種膜分離模塊、一種流體分離裝置、所述膜分離模塊及所述流體分離裝置的制造方法以及所述膜分離模塊及所述流體分離裝置的使用方法。所述混合熱塑性灌封樹脂包括:至少一個極性膜,其具有兩個端...
        • 連接驗證工具
          本實用新型涉及一種用于驗證流體處理系統的兩個流體處理組件之間的牢固連接的連接驗證工具。一種連接驗證工具可包含測量儀部分,其經定大小以放置于連接到第二流體處理組件的第一流體處理組件上方以驗證所述兩個組件之間的牢固連接。如果所述第一流體處理...
        • 用于增強襯底制品及裝置的性質及性能的涂層
          本發明描述適用于多種襯底制品、結構、材料及設備的涂層。在各種應用中,所述襯底包含金屬表面,所述金屬表面易于在其上形成此金屬的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物,其中所述金屬表面經配置以在使用中與氣體、固體或液體接觸,所述氣體、固體或液體與所...
        • 用于提高離子注入系統中的離子源的壽命和性能的方法和設備
          本申請涉及用于提高離子注入系統中的離子源的壽命和性能的方法和設備,并提供一種離子注入系統和方法,其中,通過利用富含同位素的摻雜劑材料,來提高離子注入系統的離子源的性能和壽命,或通過利用具有可有效地提供這種提高的補充氣體的摻雜劑材料來實現。
        • 用于膜架傳送機的改進型彈簧墊
          本發明揭示一種膜架傳送機,其對膜架在膜架傳送機內的跳動提供增強的預防。此外,防止跳動的結構還在裝載到所述傳送機中期間加強所述膜架的對準。此外,在某些實施例中,此類結構實現膜架的厚度與配準槽之間的較緊密公差配合,由此減少所述膜架與所述配準...
        • 涂覆有氟退火膜的物件
          本發明提供與具有優良抗等離子體蝕刻性且可延長RIE組件的壽命的涂層有關的物件及方法。一種物件具有真空兼容襯底及上覆于所述襯底的至少一部分上的保護膜。所述膜包括含有釔的氟化金屬氧化物。
        • 用于固體來源輸送的高純度六羰基鎢
          本發明描述一種用于形成含鎢膜的固體來源材料。所述固體來源材料為六羰基鎢,其中鉬的含量小于1000ppm。此固體來源材料可通過包含以下步驟的工藝形成:提供粒度小于5mm的粒狀六羰基鎢原料,其中小于15%的粒子具有大于1.4mm的粒度,且其...
        • 智能封裝
          本發明描述一種流體供應封裝,所述流體供應封裝包含流體存儲與施配容器,及耦合到所述容器且經配置以達成在施配條件下從所述容器排放流體的流體施配組合件,其中所述流體供應封裝在其上包含信息擴充裝置,例如,快速讀取QR碼及RFID標簽中的至少一者...
        • 用于提高離子注入系統中的離子源的壽命和性能的方法和設備
          本申請涉及用于提高離子注入系統中的離子源的壽命和性能的方法和設備,并提供一種離子注入系統和方法,其中,通過利用富含同位素的摻雜劑材料,來提高離子注入系統的離子源的性能和壽命,或通過利用具有可有效地提供這種提高的補充氣體的摻雜劑材料來實現。
        • 用于IR及UV監測的小體積長路徑長度多程氣體池
          本發明描述一種用于監測流體的多程池組合件,以及利用所述多程池組合件的流體處理系統及使用此多程池組合件來進行流體監測的相關聯方法。所述多程池組合件通常用于例如監測氣相沉積工藝反應物等流體處理操作中,所述氣相沉積工藝反應物例如用于從羰基鎢前...
        • 具有沖擊狀態保護的晶片容器
          本發明揭示一種前開口晶片容器,其具有容器部及門,所述門的尺寸適于閉合所述容器部的開口前部。所述容器部具有用于固持晶片且界定安放位置的擱架,且具有前向晶片支撐件及后向晶片支撐件以使晶片以所述安放位置上方的運輸位置懸置于其間。沖擊狀態緩沖部...