本發(fā)明壓敏膠粘劑用的聚丙烯酸酯復(fù)合乳液及其制備和應(yīng)用方法涉及基于丙烯酸酯聚合物的粘合劑。它是一種具有核／殼結(jié)構(gòu)的無(wú)機(jī)－有機(jī)復(fù)合乳膠粒子的復(fù)合乳液，組成這種復(fù)合乳液的乳膠粒子以表面經(jīng)硅烷偶聯(lián)劑改性的納米二氧化硅為核，以丙烯酸酯與丙烯酸單體...

本發(fā)明壓敏膠粘劑用聚丙烯酸酯復(fù)合乳液的制備方法涉及基于丙烯酸酯聚合物的粘合劑，是將納米二氧化硅水溶膠與丙烯酸酯乳液進(jìn)行復(fù)合，制備具有核／殼結(jié)構(gòu)的無(wú)機(jī)－有機(jī)復(fù)合型壓敏膠粘劑用的納米二氧化硅－聚丙烯酸酯復(fù)合乳液，具體步驟如下：ａ．種子乳液的...

本發(fā)明公開(kāi)了一種ＵＬＳＩ多層銅布線化學(xué)機(jī)械拋光中碟形坑的控制方法，其特征是：選取ＳｉＯ↓［２］水溶膠為磨料，用不同倍數(shù)的去離子水稀釋，同時(shí)加入金屬離子螯合劑用以調(diào)節(jié)ｐＨ為９．５－１１．５，加入非離子表面活性劑，在拋光進(jìn)行前加入氧化劑，在...

本發(fā)明涉及一種ＵＬＳＩ多層銅布線化學(xué)機(jī)械拋光中平整度的控制方法，其特征是：在堿性條件下選取高濃度的ＳｉＯ↓［２］水溶膠為磨料，用不同倍數(shù)的去離子水稀釋，同時(shí)加入金屬離子螯合劑、非離子表面活性劑，在拋光進(jìn)行前加入氧化劑；具體實(shí)施步驟如下：...

一種超大規(guī)模集成電路多層銅布線用化學(xué)機(jī)械全局平面化拋光液，其組成成分是：（重量％）磨料１８～５０，螯合劑０．１～１０，絡(luò)合劑０．００５～２５，活性劑０．１～１０，氧化劑１～２０，余量為去離子水。該拋光液損傷小、平整度高、易清洗；不腐蝕設(shè)...

超大規(guī)模集成電路多層銅布線中銅與鉭化學(xué)機(jī)械全局平面化拋光液，其組成成分是（重量％）磨料１８～５０；螯合劑０．１～１０；絡(luò)合劑０．００５～２５；活性劑０．１～１０；余量為去離子水。該拋光液損傷小、平整度高、易清洗；不腐蝕設(shè)備，不污染環(huán)境；...

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于鈮酸鋰光學(xué)晶片研磨拋光的拋光液。本發(fā)明拋光液成分和體積％比組成如下：硅溶膠３０～９０；有機(jī)胺堿１～１０；無(wú)機(jī)堿１～５；活性劑０．５～５；螯合劑ＦＡ／Ｏ０．５～５；去離子水為余量。本發(fā)明在ＣＭＰ條件下，在高ｐＨ值條件下...

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于微晶玻璃研磨拋光的拋光液的成分和體積％比組成如下：硅溶膠３０～９０；有機(jī)胺堿１～１０；活性劑０．５～５；ＫＯＨ溶液０．５～５；去離子水為余量。在ＣＭＰ條件，將微晶玻璃的主體二氧化硅（酸性氧化物）在高ｐＨ值下快速轉(zhuǎn)化為...

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于存儲(chǔ)器硬盤的磁盤基片拋光的納米ＳｉＯ↓［２］水溶膠為磨料的堿性拋光液。本發(fā)明拋光液的成分和重量％比組成如下：螯合劑０．５－１０、ｐＨ值調(diào)節(jié)劑０．５－５、硅溶膠５０－９０、表面活性劑０．５－５、氧化劑０．５－１０、去離...

本發(fā)明公開(kāi)了一種對(duì)硼酸鋰銫晶體有效的無(wú)水拋光液及拋光方法。本發(fā)明用于硼酸鋰銫晶體的化學(xué)機(jī)械無(wú)水拋光液的組成成分ｗｔ％如下：（ａ）納米ＳｉＯ↓［２］磨料４－８、（ｂ）有機(jī)溶劑７２－９５、（ｃ）有機(jī)堿０．５－１０、（ｄ）表面活性劑０．５－１...

本發(fā)明涉及藍(lán)寶石襯底材料表面高精密加工過(guò)程中化學(xué)機(jī)械拋光（ＣＭＰ）拋光液及其制備方法。拋光液成分和重量％比組成為：硅溶膠１～９０、堿性調(diào)節(jié)劑０．２５～５、醚醇類活性劑０．５～１０、螯合劑１．２５～１５、去離子水為余量。該拋光液的配制方法...

本發(fā)明公開(kāi)了一種半導(dǎo)體銻化銦化學(xué)機(jī)械拋光液，旨在提供一種以有機(jī)堿替代無(wú)機(jī)堿，通過(guò)添加螯合劑、活性劑降低產(chǎn)品表面粗糙度，減少劃傷，提高平整度的銻化銦化學(xué)機(jī)械拋光液。按體積百分比由下述組分組成：ＳｉＯ↓［２］濃度為３０－５０％的硅溶膠５０－...

本發(fā)明涉及一種電子玻璃的納米ＳｉＯ↓［２］磨料拋光液，其特征在于拋光液的組分及重量％如下：磨料：二氧化硅水溶膠固含量：２０－４５，復(fù)合堿：０．５－５．５，滲透劑：１．０－１０，表面活性劑：１．０－１０，去離子水：余量；將上述各組分逐級(jí)混...

本發(fā)明涉及一種ＵＬＳＩ多層銅布線化學(xué)機(jī)械拋光表面粗糙度的控制方法，其特征是：在堿性條件下采用易清洗、小粒徑的ＳｉＯ↓［２］水溶膠為磨料，采用有機(jī)堿做ｐＨ調(diào)節(jié)劑和絡(luò)合劑，并加入非離子表面活性劑配制成拋光液；包括步驟如下：首先配制拋光液：ａ...

本發(fā)明公開(kāi)了一種化學(xué)作用強(qiáng)，易于清洗，有效解決了劃傷問(wèn)題，拋光速率高，流動(dòng)性好的用于磷酸氧鈦鉀晶體的化學(xué)機(jī)械拋光液。本發(fā)明拋光液的成分和重量％如下：納米ＳｉＯ↓［２］溶膠１０－９０、無(wú)機(jī)堿和有機(jī)堿０．５－１０、非離子表面活性劑０．５－１...

本發(fā)明公開(kāi)了一種超大規(guī)模集成電路專用納米硅溶膠的純化方法，旨在提供一種有效的降低硅溶膠中金屬離子的含量，以提高晶片質(zhì)量的硅溶膠的純化方法。將鹽酸注入陽(yáng)離子交換樹(shù)脂中攪拌，制備酸性陽(yáng)離子交換樹(shù)脂；然后將高金屬離子含量的堿性硅溶膠加入到酸性...

本發(fā)明公開(kāi)了一種超大規(guī)模集成電路專用納米硅溶膠的穩(wěn)定方法，旨在提供一種生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，穩(wěn)定性高的高濃度酸性硅溶膠的制備方法。首先采用陽(yáng)－陰－陽(yáng)三次離子交換純化硅溶膠，之后，將交換后的硅溶膠中加入聚醚型非離子表面活性劑，硅溶膠與活性劑的體積...

本發(fā)明粉末涂料用丙烯酸樹(shù)脂的制備方法涉及僅用碳－碳不飽和鍵反應(yīng)得到的高分子化合物的聚合工藝過(guò)程，是分散聚合方法，步驟包括（１）反應(yīng)物配料為：分散介質(zhì)２５０．０～２０００．０、混合單體１００．０、自由基引發(fā)劑０．５～８．０和鏈轉(zhuǎn)移劑０或０...

本發(fā)明涉及一種隔熱涂料及其制備方法。該涂料的質(zhì)量百分比配方是：Ａ組分７５～９０％；Ｂ組分５～２０％；Ｃ組分５～２０％；Ａ組分包括占其總量的：乳液３５～６０％；乳膠漆助劑５～３０％；鈦白粉１５～４０％；水２０～４５％；Ｂ組分為表面疏水改性...

本發(fā)明制備粉末涂料用丙烯酸樹(shù)脂的方法涉及僅用碳－碳不飽和鍵反應(yīng)得到的高分子化合物的聚合工藝過(guò)程，是分散聚合方法，其步驟包括（１）反應(yīng)物配料：分散介質(zhì)３３３．３～１０００．０、混合單體１００．０、自由基引發(fā)劑０．５～８．０、鏈轉(zhuǎn)移劑０或０...