一種高溫高壓堿溶液活化膨潤土生產Ｐ型洗滌用沸石的工藝方法步驟如下：將膨潤土礦粉提純并粉碎，（ｂ）將提純后的膨潤土礦粉與氫氧化鈉及水按物質的量比１∶１∶１５０～１∶３∶２００配料，混合均勻后，在１００℃～３００℃的高壓釜中反應１～６小時...

本發明涉及一種用于硅晶片和其它化合物半導體材料晶塊切削的堿性半導體硅材料水基切削液，主要由聚乙二醇、ｐＨ值調節劑、螯合劑組成，其組分及生產濃度質量份數為：分子量２００－１０００聚乙二醇３０－９０，ｐＨ值調節劑９－３０，螯合劑１－１０，去...

本發明為一種由黃連木籽油生產生物柴油的工藝方法，屬于生物柴油領域。它是以黃連木籽油為原料，采用復合酶催化來制備生物柴油的方法，其步驟包括：１）黃連木籽油的預處理；２）向上步得到的經過預處理的黃連木籽油中依次加入乙酸甲酯、復合酶催化劑、有...

本發明涉及一種相變自調溫單元組合物及其制備方法和用途，所述組合物組分和重量比為：有機相變材料２５～７０％；無機非金屬礦物材料３０～７５％；有機相變材料為Ｃ１２－１４有機醇中的一種或幾種，無機非金屬礦物材料為海泡石、坡縷石、凹凸棒石中的一...

一種微膠囊包覆相變材料及其制備方法。屬于功能性復合材料技術領域。本發明所要解決的技術問題是用聚合物包覆相變材料。其主要技術特征是將作為芯材的相變材料和作為壁材的聚合物及乳化劑、分散劑、去離子水經聚合反應制成微膠囊包覆相變材料。該材料結構...

用于危險環境的快速堵漏膠屬于雙組分堵漏膠，涉及由環氧樹脂、聚氨酯為主要組分、適合機器人操作的雙組分室溫快速固化膠及配制方法。它克服了傳統快速堵漏膠粘度較大、配膠較麻煩、不便于機器人操作的問題。該膠由雙組分膠液（１）和復合固化劑（２）組成...

機器人堵漏用膠粘劑及其配制方法與應用，涉及一種適合機器人堵漏用雙酚Ａ環氧樹脂、三氟化硼絡合物為主要組分的雙組分室溫快速固化膠及配制方法。本發明解決了傳統的快速堵漏膠在危險環境下，由人工堵漏有害于人體，且操作難度大的問題，提供一種適于機器...

本發明涉及一種作物根際土壤調理劑，其產品為粉狀。主要由二氧化氯、抗生素、氨基酸和硫酸鹽組成。這種作物根際土壤調理劑，可以殺滅土壤中的有害微生物，氧化分解土壤中的有機污染物，可以防治或減輕土傳病害，為作物連作和作物安全創造良好的根際微環境。

本發明涉及了一種縮聚型磷酸酯，其具有如右式結構，其中ｍ是１～１０的整數，ｎ是１～３的整數；Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］每一個獨立地是含有２～４碳原子的烷基；Ｒ↓［５］是二價芳香基團；Ｘ是鹵原子。本發明同時為此磷酸酯提供...

本發明一種低熔點液晶環氧樹脂及其合成方法涉及環氧樹脂。它具有如下的化學結構式：（如圖）該式中ｍ＝１～３，ｎ＝２～４。其熔點為５８．５～７８．９℃，清亮點為８７．２～１３５．１℃，液晶相溫度范圍△Ｔ為２８．７～５６．３℃，具有更低的熔點，...

本發明是一種壓敏膠用網絡梯度結構丙烯酸酯聚合物乳液的制備方法，涉及基于丙烯酸酯聚合物的粘合劑。該方法包括以下步驟：①種子乳液的制備；②殼層單體的預乳化；③殼層梯度進料。通過向殼層滴加鏈轉移劑叔十二烷基硫醇（ＣＴＡ）濃度呈不連續的階段變化...

本發明是一種壓敏膠粘劑用丙烯酸酯共聚物乳液的制備方法，屬于基于丙烯酸酯共聚物的粘合劑。本發明的壓敏膠粘劑用丙烯酸酯共聚物乳液的制備方法，包括以下步驟：①種子乳液的制備；②殼層單體的預乳化和③殼層梯度進料。采用種子乳液聚合技術通過向殼層滴...

本發明壓敏膠粘劑用的聚丙烯酸酯復合乳液及其制備和應用方法涉及基于丙烯酸酯聚合物的粘合劑。它是一種具有核／殼結構的無機－有機復合乳膠粒子的復合乳液，組成這種復合乳液的乳膠粒子以表面經硅烷偶聯劑改性的納米二氧化硅為核，以丙烯酸酯與丙烯酸單體...

本發明壓敏膠粘劑用聚丙烯酸酯復合乳液的制備方法涉及基于丙烯酸酯聚合物的粘合劑，是將納米二氧化硅水溶膠與丙烯酸酯乳液進行復合，制備具有核／殼結構的無機－有機復合型壓敏膠粘劑用的納米二氧化硅－聚丙烯酸酯復合乳液，具體步驟如下：ａ．種子乳液的...

本發明公開了一種ＵＬＳＩ多層銅布線化學機械拋光中碟形坑的控制方法，其特征是：選取ＳｉＯ↓［２］水溶膠為磨料，用不同倍數的去離子水稀釋，同時加入金屬離子螯合劑用以調節ｐＨ為９．５－１１．５，加入非離子表面活性劑，在拋光進行前加入氧化劑，在...

本發明涉及一種ＵＬＳＩ多層銅布線化學機械拋光中平整度的控制方法，其特征是：在堿性條件下選取高濃度的ＳｉＯ↓［２］水溶膠為磨料，用不同倍數的去離子水稀釋，同時加入金屬離子螯合劑、非離子表面活性劑，在拋光進行前加入氧化劑；具體實施步驟如下：...

一種超大規模集成電路多層銅布線用化學機械全局平面化拋光液，其組成成分是：（重量％）磨料１８～５０，螯合劑０．１～１０，絡合劑０．００５～２５，活性劑０．１～１０，氧化劑１～２０，余量為去離子水。該拋光液損傷小、平整度高、易清洗；不腐蝕設...

超大規模集成電路多層銅布線中銅與鉭化學機械全局平面化拋光液，其組成成分是（重量％）磨料１８～５０；螯合劑０．１～１０；絡合劑０．００５～２５；活性劑０．１～１０；余量為去離子水。該拋光液損傷小、平整度高、易清洗；不腐蝕設備，不污染環境；...

本發明公開了一種用于鈮酸鋰光學晶片研磨拋光的拋光液。本發明拋光液成分和體積％比組成如下：硅溶膠３０～９０；有機胺堿１～１０；無機堿１～５；活性劑０．５～５；螯合劑ＦＡ／Ｏ０．５～５；去離子水為余量。本發明在ＣＭＰ條件下，在高ｐＨ值條件下...

本發明公開了一種用于微晶玻璃研磨拋光的拋光液的成分和體積％比組成如下：硅溶膠３０～９０；有機胺堿１～１０；活性劑０．５～５；ＫＯＨ溶液０．５～５；去離子水為余量。在ＣＭＰ條件，將微晶玻璃的主體二氧化硅（酸性氧化物）在高ｐＨ值下快速轉化為...