本公開內容的方面提供了一種用于改善波導顯示面板的輸出耦合器的性能諸如減少眼睛眩光的設備。示例波導包括抗反射涂層。所述波導進一步包括設置在所述抗反射涂層上方的基板，其中所述基板包括1.5至2.7的折射率。所述波導進一步包括設置在所述基板上...

本公開案提供子像素。所述子像素包括分隔開多個陽極的多個像素結構。所述多個像素結構安置在基板上方。多個懸垂結構安置在所述多個像素結構上方。所述多個懸垂結構的每個懸垂結構包括上部，所述上部包括非晶硅，所述非晶硅安置在包括鍺的下部上方。所述上...

本文描述了預熱環和具有所述預熱環的處理腔室。在一個例子中，用于膜沉積的處理腔室包括腔室容積、布置在腔室容積中的基板支撐件、基板支撐件具有徑向向外的表面、以及圍繞基板支撐件的預熱環。預熱環包括面向徑向向外表面的錐形壁。錐形壁朝向預熱環的頂...

本公開案的實施方式涉及用于在等離子體處理系統中處理基板的系統及方法。在實施方式中，提供了一種等離子體處理系統，所述等離子體處理系統包括射頻(RF)產生器，所述射頻(RF)產生器耦合至安置在所述等離子體處理系統內的基板支撐底座并經配置以將...

一種方法包括獲得基底結構，該基底結構包括安置在基板上的介電層堆疊。該介電層堆疊包括：第一光敏性介電層，該第一光敏性介電層包括對第一輻射劑量敏感的第一光敏性介電材料；第二光敏性介電層，該第二光敏性介電層包括對不同于該第一輻射劑量的第二輻射...

公開了一種群集工具的交換器組件，該交換器組件包括外殼、至少兩個交換器和馬達組件。該至少兩個交換器至少部分地安置在該外殼內并相對于該外殼可旋轉。每個交換器包括主體、第一臂和第二臂。該第一臂和該第二臂相對于該主體可旋轉。該馬達組件包括至少一...

實施例包括用于低粗糙度納米結晶金剛石膜的生長的模塊化高頻發射源。在一個實施例中，一種制造納米結晶金剛石(NCD)膜的方法包括將納米金剛石種晶硅晶片或已經經過表面處理和溫育的裸硅晶片裝載到微波等離子體增強化學氣相沉積(MWPECVD)腔室...

在一個實施例中，一種噴嘴組件包括主體，所述主體具有內部表面，所述內部表面形成所述主體內的內部空腔。所述組件還包括：氣體入口，所述氣體入口設置在所述主體內；流體入口，所述流體入口設置在所述主體內；以及混合腔室，所述混合腔室設置在所述主體的...

本文所描述的實施例涉及一種形成子像素的方法。所述方法包括在基板和陽極上方沉積第一結構材料。所述陽極設置在所述基板上方。在所述第一結構材料上方沉積層間介電（ILD）材料。將ILD材料圖案化。在所述ILD材料和所述第一結構材料上方沉積中間結...

本公開內容涉及用于半導體制造的分析基板處理的均勻性的方法及相關設備和系統。在一個或多個實施例中，指示不均勻性，并且該不均勻性是溫度不均勻性和/或物理不均勻性。在一個或多個實施例中，接受或拒絕信號輪廓。在一個或多個實施例中，一種適用于半導...

示例性半導體處理方法可包括對容納在第一半導體處理腔室的第一處理區域內的基板執行處置操作。該方法可包括向第一半導體處理腔室的第一處理區域提供含氮前驅物。該方法可包括形成含氮前驅物的等離子體流出物。該方法可包括使基板與含氮前驅物的等離子體流...

本文所述的實施例涉及加工金屬氧化物層界面以改善電子器件穩定性。例如，晶體管器件可以包括基底結構和設置在基底結構上的金屬氧化物層。金屬氧化物層包括至少一個區域，該區域具有關于氧氣(O2)組成的梯度剖面。

公開了用于拋光液體傳輸臂的清潔系統。一種拋光組件包括：用以支撐拋光墊的能夠旋轉的工作臺；拋光液體傳輸臂，具有在底部處開啟的圍護件，和一個或更多個端口，以傳輸拋光液體和清潔流體向下通過圍護件的內部空間至拋光墊上；以及傳輸臂清潔工具，可移除...

本公開內容的實施例提供了一種用于化學機械拋光的具有多個圓盤的墊調節器。所述墊調節器包括：軸承環，所述軸承環連接到軸的下部分；外圓盤組件，所述外圓盤組件連接到所述軸的所述下部分，所述外圓盤組件、外圓盤撓性件、多個外圓盤設置在外圓盤的底表面...

本公開涉及用于制造半導體封裝的系統和方法，并且更具體地，用于通過激光燒蝕在半導體封裝中形成特征的系統和方法。在一個實施例中，本文描述的激光系統和方法可用于將用作半導體封裝的封裝框架的基板圖案化，所述半導體封裝具有穿過其形成的一個或多個互...

本公開內容涉及用于半導體制造的調整基板處理均勻性的方法和相關設備和系統。在一個或多個實施例中，施加至一組一個或多個熱源的加熱功率通過調整因子來調整。在一個或多個實施例中，一種調整均勻性的方法。該方法包括跨一個或多個區段掃描傳感器以獲取多...

刷盒清潔模塊是作為集成混合結合平臺中的預處置工藝流程的一部分引入的。它解決了在晶粒前側和背側表面上實現高清潔度水平的技術問題，特別是通過去除由背磨膠帶和劃片膠帶引起的殘留物和顆粒。所述刷盒清潔模塊以化學方式和機械方式兩者高效地去除難除的...

本公開內容涉及增強現實裝置和相關方法。在一個或多個實施例中，一種增強現實裝置包括投影系統和波導。投影系統包括投影儀和棱鏡。投影儀沿著投影儀主軸投射圖像。棱鏡折射出具有第一光譜、第二光譜和第三光譜的圖像。波導與由投影儀的主軸形成的平面成包...

本文公開了一種用于控制處理腔室中顆粒生長的方法。該方法包括在腔室中使用前驅物來執行至少一個等離子體沉積工藝以在基板上形成層。該方法還包括在至少一個等離子體沉積工藝期間向腔室提供功率，以及監測至少一個判據以確定何時將執行至少一次等離子體凈...

示例性半導體處理腔室可包括腔室主體。腔室可包括腔室主體內的基板支撐件。基板支撐件可限定基板支撐表面。腔室可包括被支撐在腔室主體頂上的面板。基板支撐件和面板的底表面可至少部分地限定處理區域。面板的底表面可限定位于基板支撐表面的徑向外部10...