一種目檢機臺宏觀檢測光源裝置，包括：光源模組，具有微調旋鈕，用于對光源模組中的光源參數進行調節；濾光組件，具有若干不同色彩的濾光片，用于對光源模組發出的光線進行濾光；第一光傳導組件，第一光傳導組件用于將濾光后的光線傳輸至目檢機臺；多角度...

一種壓環組件的校準工具。所述壓環組件包括：屏蔽件以及壓環；所述屏蔽件包括延同一方向延伸的內壁及外壁，所述壓環套設在所述屏蔽件的內壁外，且所述壓環的邊緣位于所述屏蔽件外壁及內壁的空隙內；所述校準工具包括至少一個校準單元，每個所述校準單元包...

本公開實施例提供了一種液位監測管道、液位監測系統，其中，液位監測系統包括：液體容器；液位監測管道；一個或多個液位傳感器，位于所述液體容器外且朝向所述液位監測管道。液位監測管道，用于對液體容器中液體頂部表面位置進行監測，其特征在于，包括：...

本發明實施例提供了一種SRAM計數標記的版圖及其設計方法、SRAM器件，所述版圖，包括：多個位線庫圖案，所述位線庫圖案包括多個互相平行的子庫圖案，各個子庫圖案包括相同數量個互相平行的位線圖案，且相鄰所述位線庫圖案之間具有冗余區域；與每個...

本申請涉及半導體技術領域，公開了一種熔絲結構及其制備方法、半導體器件和集成電路，該熔絲結構包括：襯底；位于襯底上的熔絲體；其中，熔絲體的材質為多晶硅材質；刻蝕停止層；其中，刻蝕停止層覆蓋在熔絲體的正上方，且刻蝕停止層的厚度為35埃至65...

本技術提供一種冷量回收系統，包括：氣化裝置，用于將液態氮轉化為氣態氮氣；冷量存儲裝置，與所述氣化裝置連接，用于回收所述氣態氮氣中的冷量，所述冷量存儲裝置上具有供水管和回水管；與所述冷量存儲裝置連通的至少一個終端裝置，所述供水管為所述終端...

一種鎖緊狀態監測裝置及晶圓裝載設備，鎖緊狀態監測裝置用于在晶圓裝載設備和晶圓傳送盒對接前監測晶圓傳送盒的鎖孔狀態，所述鎖緊狀態監測裝置包括測距單元和處理單元，所述測距單元用于測量晶圓裝載設備至晶圓傳送盒的鎖孔處的距離，所述處理單元用于接...

本申請涉及半導體技術領域，公開了一種多晶硅熔絲結構的制造方法及半導體器件，其中方法包括：沉積介電保護層；在介電保護層上形成光刻膠層，保留多晶硅熔絲結構熔絲區的光刻膠層，以暴露其他非多晶硅熔絲結構熔絲區的介電保護層；刻蝕去除其他非多晶硅熔...

本申請實施例提供了一種半導體工藝腔室及半導體設備，其中，所述半導體工藝腔室，包括：旋涂腔體，用于在晶圓上旋涂光刻膠；設置于所述旋涂腔體側壁的腔體門，用于使傳送臂通過所述腔體門取送晶圓；設置于所述腔體門遠離所述旋涂腔體的方向的氣體對流裝置...

本申請涉及深度學習技術領域，公開了一種半導體工藝參數優化模型訓練方法、裝置和計算機設備，其中，采集結構化樣本數據，每一結構化樣本數據中包含生產半導體器件時記錄的工藝參數，以及對基于工藝參數生產的半導體器件測量得到的真實性能指標；利用結構...

本申請實施例提供一種ESD防護結構及其形成方法、半導體器件，所述形成方法，包括：提供基底；在基底上形成漂移區；在漂移區內形成隔離的第一摻雜層和第二摻雜層；形成位于漂移區內第一體區和第二體區；在第一體區內形成相互隔離的第三摻雜層、第四摻雜...

本申請提供了一種邊緣環平整度檢測裝置，應用于氣相沉積腔室，所述氣相沉積腔室包括基座和位于所述基座邊緣的邊緣環，所述基座內設置有加熱器，用于對所述基座進行加熱，所述邊緣環平整度檢測裝置包括：檢測主體，和環繞所述檢測主體邊緣的接觸指示結構；...

本發明提供一種電熔絲燒調良率測試結構及方法，通過采用多個電熔絲結構單元相互并聯的設計，并將所有電熔絲結構單元電連接于第一測試鍵與第二測試鍵之間，同時在檢測過程中采用統一的燒調條件對所有電熔絲結構單元進行燒調，并在第一測試鍵上施加電壓以量...

本發明提供一種測試連接路徑選取方法、裝置及終端，選取方法包括：獲取連接路徑數據，并將所述連接路徑數據構建成圖模型；其中，所述圖模型中的節點表示測試器件的引腳和測試端口；所述圖模型中的邊表示所述引腳與所述測試端口之間的潛在連接路徑；所述邊...

本公開提供一種用于廢水處理系統的控制裝置及廢水處理系統，廢水處理系統包括液體傳輸裝置和氣體傳輸裝置，液體傳輸裝置包括液體傳輸管路，氣體傳輸裝置與液體傳輸裝置連接；控制裝置包括：第一檢測電路，與液體傳輸管路耦接，配置為向液體傳輸管路內部發...

本技術提供一種噴膠設備及噴膠系統，其中，噴膠設備包括：第一供應裝置，所述第一供應裝置用于提供第一光刻膠；第二供應裝置，所述第二供應裝置用于提供第二光刻膠，所述第一供應裝置和所述第二供應裝置相互獨立供膠，且所述第二光刻膠的供應量，小于所述...

本發明提供一種電容結構及其形成方法，所述方法包括：形成第一金屬極板；在所述第一金屬極板上形成第一氮化鈦層，所述第一氮化鈦層的熱膨脹系數小于所述第一金屬極板的熱膨脹系數；在所述第一氮化鈦層上形成介質疊層，所述介質疊層中所有層均為含氮材料層...

一種CMP機臺，包括：臺面；置于所述臺面上的機臺主體和機臺罩、以及置于所述機臺罩內側的若干噴頭，所述機臺罩圍設在所述機臺主體周圍，所述機臺罩具有機臺門，所述機臺門可繞其門軸向外打開，若干所述噴頭用于向所述機臺門噴水形成水簾；置于所述機臺...

一種晶圓傳送裝置，包括：傳送部件，用于傳送晶圓；光學發射器，用于發射檢測光線，檢測光線照射至晶圓的表面并反射；光學接收器，光學發射器和光學接收器設置固定在相同高度，用于接收檢測光線；控制器，用于在光學接收器接收到檢測光線后，控制傳送部件...

本申請提供一種能量回收系統，包括：冷卻塔；熱回收冷機，包括第一熱媒管和第二熱媒管；冷卻空調，所述冷卻空調包括加熱單元；第一連接管路組，包括第一管路和第二管路，所述第一管路連接所述第一熱媒管的一端和所述冷卻塔的入口，所述第二管路連接所述第...